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蝕刻(kè)機蝕刻過程中應注意(yì)的問題

作者: 點擊:1134 發布時間:2021-06-23

1.提升板子與板子中間蝕刻速率的一致性
蝕(shí)刻機在持續的板子蝕刻中,蝕刻速率越一致,越能(néng)得到勻稱蝕刻的板子。要做到(dào)這一規定,務必確(què)保蝕刻液在蝕刻的整個過程持續(xù)保持在的蝕(shí)刻情(qíng)況。這就規定挑選非常容易再造和賠償,蝕刻速率非常容易操縱的蝕刻液(yè)。采用能給予穩定的(de)實際操作標準和對各種各樣水溶液主要參(cān)數能自動控製係統的加工工藝和機(jī)器設備(bèi)。根(gēn)據操縱溶銅量,PH值(zhí),溶液的濃度,溫度,水溶液總流量的勻稱性(自動噴淋(lín)係統(tǒng)或(huò)噴頭及(jí)其噴頭的晃動)等來完成。
2.高全部板子表層蝕刻速率的勻稱性
板子左右雙麵(miàn)及其板麵上每(měi)個(gè)位置的蝕刻勻稱性是由板子(zǐ)表層(céng)遭受蝕刻劑總流(liú)量的(de)勻稱性決策的(de)。蝕刻全過程中(zhōng),左右板(bǎn)麵的蝕刻(kè)速率通常不一致。一般來說,下板麵的蝕刻速率(lǜ)高過上板麵。由(yóu)於上板(bǎn)麵有水溶液的沉積(jī),變弱了蝕刻反映的開展。能夠根據調節左右噴頭的噴啉工(gōng)作壓力來處(chù)理左右板(bǎn)麵蝕刻不均勻的狀況。蝕(shí)刻印製電路板的一個廣(guǎng)泛難題是在同樣時(shí)間裏使所有板麵都蝕刻(kè)整潔是難以保證的(de),板子邊(biān)沿比板子管理中心位置蝕刻的快(kuài)。選用自動噴淋係統(tǒng)並使噴頭晃動是(shì)一(yī)個合理的對策。更進一步的改進能夠根(gēn)據使板管(guǎn)理(lǐ)中心和(hé)板邊沿處的自噴工作壓力不一樣,板前沿和板後麵間歇性(xìng)蝕刻的(de)方法,做到全部板麵的蝕(shí)刻(kè)勻(yún)稱性。
3.提升安全性解決和(hé)蝕刻薄銅箔及薄聚酰亞胺薄膜的工作能力
蝕刻機在蝕刻實木多層板裏層那樣的薄聚酰亞胺薄膜時,板子非常容易倒絲機(jī)在滾軸(zhóu)和傳輸輪上而導致廢料。因此,蝕刻內多層板的機器設備務必確保能穩定(dìng)的,靠譜地解決薄的(de)聚酰亞胺(àn)薄膜。很多機器設備生產商在(zài)蝕刻(kè)機上額外傳動齒輪或滾軸來避免 這類狀況的產生。更強的方式是選用額外的搖擺不定的聚四(sì)氟(fú)乙烯塗包線做為(wéi)薄(báo)聚酰亞胺薄膜傳輸的支撐柱。針對薄銅箔(比如1/2或1/4蠱司)的(de)蝕刻,務必確保不被擦破或刮傷。薄銅(tóng)箔禁不住像蝕(shí)刻1盎司銅箔時的機械設備上的缺點,有時候(hòu)較強烈的振顫都是有很有可能刮傷銅箔。
4.降低環境汙染的難題(tí)
蝕刻機(jī)中銅對水的環境汙染(rǎn)是印刷電路板生產製造中廣泛存在的不足,氨堿蝕刻液的應用更為重了這個問題(tí)。由於銅(tóng)與氨絡合作用,不(bú)易用離子交換或堿離子交換法去除。因此,選用第二次自噴實際操作的方式,用無銅(tóng)的加上液來浸洗板子,大大的地降低銅的排出來量。隨後,再用氣體刀在水(shuǐ)浸洗以前(qián)將板麵(miàn)上不必(bì)要的水溶液去除,進而緩解了水對銅和蝕刻的酸鹽的浸洗壓(yā)力。


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