金屬材（cái）料在蝕刻機裏的浸蝕全過程，關鍵（jiàn）在於在金屬零件（jiàn）表層產生晶（jīng）體的分解（jiě）功效，次之在位錯上都產生（shēng）分解功能，一（yī）般來講（jiǎng），位錯要以（yǐ）有別於晶體的分解速率產生融解功效的。
在大部分金屬材料和鋁合金（jīn）得多（duō）分子結構中，每個結晶幾乎都能采用分子晶格常數的所有趨向。而晶體的差異趨向、晶體密度的尺（chǐ）寸及（jí）殘渣都是會和四周的孕媽金屬材料產生外部（bù）經濟或超微觀原（yuán）電池反應。因此，針對金屬材料在（zài）蝕刻液（yè）中而言，一方麵這種（zhǒng）原電池反應的（de）出現，使金屬表層存在電勢差，電位差正的地區獲得暫時性的維護，電位差負的（de）區域在腐蝕（shí）機裏被優先選擇（zé）刻蝕。另一方（fāng）麵在零件表層具備轉變著分子（zǐ）間隔，並且分子間隔比較寬（kuān）的區域融解速率快速（sù），一直到表明（míng）出不平坦的表（biǎo）層才行。隨後，融解功效會以似乎是相對穩定的速率鑽削密切堆積原子層，表層的幾何結構也隨之晶體的分（fèn）解而再次不斷轉變。位（wèi）錯裏的刻蝕也將進一步危害零件表層。在位錯上（shàng）晶格常數的崎變和聚集的雜物，經常造成更為快速地（dì）刻蝕功效，進而可能會讓全部（bù）晶（jīng）體遭受凹痕狀刻蝕。晶粒尺寸越低，刻蝕後外表粗糙度越（yuè）小（xiǎo），這還可以從具（jù）體生（shēng）產過（guò）程中獲得（dé）確認。在生產（chǎn）過程（chéng）中通常都是原材（cái）料越（yuè）勻稱高密度其表（biǎo）層越光滑。
產品（pǐn）工（gōng）件在蝕刻機（jī）浸蝕環節中，怎樣（yàng）得到（dào）表層光滑的效果呢？根據鑫恒力研究表明，如果是要開展紋路刻（kè）蝕（shí），就要使這類外部經濟部分刻蝕狀（zhuàng）況提升。例如操縱適宜的酸值或酸堿度，並添加一些致力於更改刻蝕的行為第二化學（xué）物質，使被刻蝕表麵展現出所需的不光滑化（huà）表層實際效果。要是在（zài）腐（fǔ）蝕機內（nèi）進行有機化（huà）學鏤空雕花，同樣需要發（fā）揮特長（zhǎng），提高蝕刻液的蝕刻加工水平，使刻蝕更趨向均勻化，以獲得表層光滑光潔效果。
