蝕刻機和光刻技（jì）術（shù）之間的差別

乍一看光刻（kè）技術和（hé）蝕刻機很接近，可（kě）是光刻技術和蝕刻機卻不混為一談，由（yóu）於刻蝕僅僅製造芯片其中之（zhī）一的步驟而已。而刻蝕機隻不過（guò）是眾（zhòng）多芯片（piàn）製造設備（bèi）其中之一。下邊在（zài）這裏給大（dà）家聊一（yī）下蝕刻機。
蝕（shí）刻機和光刻技術其實也就（jiù）是截然不同（tóng）的二種機器設備，不（bú）論從作用或是在結構（gòu）上而言都（dōu）是天壤之別，光刻技術是芯片製造過程裏（lǐ）為中（zhōng）心的（de）機器設（shè）備，芯片製造是通過光刻技術（shù）所決定的，而非蝕刻機。
從原理來看光刻技術和蝕刻（kè）機。
如果將製造芯片比作建（jiàn）房子，那樣光（guāng）刻技術的作用是把房子的結（jié）構標（biāo）明在地板上（shàng）。蝕刻（kè）機便是在光刻技術進行（háng）之後（hòu）才登場的機器設備（bèi），都是（shì）光刻技術進行之後尤為重要的機器設備之一。蝕刻機主要的（de）的（de）作用是依照光刻技術早已標明好的線去做基礎建設，把沒有用的地區給清理掉，隻（zhī）留光刻技術環節（jiē）中標明好一點的路線。
從在結構上看（kàn）來光刻技術（shù）和蝕刻機。
光刻技術的重要的（de）關鍵技術便是燈源和激光（guāng）光路，其燈源和激光光路的重要構（gòu）成部分有四個（gè），燈源、曝出、檢驗（yàn）、和（hé）其它高（gāo）精密機械製造構成。對比下，蝕刻機的構造構成就需要簡單一（yī）些，通常是等離子頻射源、反（fǎn）映室和真（zhēn）氣體（tǐ）路等構成。